纳米高纯氧化铝Al₂O₃因其优异的物理和化学特性而成为CMP抛光不可或缺的研磨剂之一。全球抛光液领导者的日本Fujimi推出的晶圆抛光解决方案就包括不同系列的氧化铝，其中纯度超过99%的PWA系列就是一种晶圆抛光工序中用到的最高等级的氧化铝研磨剂。

众所周知，氧化铝的高硬度可以带来较高的去除效率，高纯度可以减少杂质引入，小粒径可以带来更低的表面粗糙度，惰性则能够适配于抛光液的复杂化学成分……而不同制备工艺对氧化铝的微观形貌有显著影响，这也是影响CMP抛光质量的关键因素之一，比如上图PWA系列电镜图所示，这明显是一种片状氧化铝。这也就意味着纳米氧化铝的制备工艺除了应当满足能够精确控制纯度、粒径，还应该能够通过控制条件以形成片状结构。

中铝是国内也是全球最大的精细氧化铝供应商，也是国家铝基新材料产业“卡脖子”技术、产品的科技研发及产业化的推进主体，旗下的中铝山东正是负责精细氧化铝业务开拓和创新的主力。半导体以及AI是当下经济大环境下为数不多的两大亮点，对CMP抛光的依赖度很高，也排在“国产替代”表单前列。